Équipement de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à courant continu à cathode chaude (DCCVD)

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Équipement de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à courant continu à cathode chaude (DCCVD)

Équipement de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à courant continu à cathode chaude (DCCVD)

L'équipement de dépôt chimique en phase vapeur à plasma à courant continu à cathode chaude (DCCVD) est développé sur la

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DESCRIPTION

Informations de base
Modèle NON.CY-O1200-DCCVD
MatérielAcier
TaperFour tubulaire
Vide ultime0.1~1PA
Temps d'arrêt de la pompe5 ~ 15 minutes
Réglage de l'éventAssurer l'uniformité du pompage
Courant de travail6~15A
Tension de fonctionnement600~1200V
Forfait transportCarton en bois contreplaqué
Marque déposéeCYKY
OrigineZhengzhou, Chine
Code SH85143090
Capacité de production20 ensembles/mois
Description du produit

L'équipement de dépôt chimique en phase vapeur à plasma à courant continu à cathode chaude (DCCVD) est développé sur la base d'une décharge luminescente à cathode froide conventionnelle et est principalement utilisé pour le dépôt et la croissance de monocristal de diamant ou de film polycristallin.

La zone de composition et les caractéristiques de base de la décharge luminescente à cathode chaude :

La décharge luminescente de l'équipement de dépôt chimique en phase vapeur par plasma à courant continu à cathode chaude peut être divisée en quatre zones le long de l'axe de la cathode à l'anode : couche luminescente de cathode, zone sombre de Faraday, boule de plasma luminescente à colonne positive et couche luminescente d'anode. Parmi eux, la couche luminescente cathodique est une fine couche électroluminescente proche de la cathode, où se produit l'énorme décharge d'onde, qui joue un rôle important dans le processus de décharge luminescente; la zone sombre de Faraday est la zone de transition entre la zone cathodique et la zone colonne positive. Les électrons entrent en collision dans la région de la cathode et perdent de l'énergie, et les électrons lents ne suffisent pas à provoquer une ionisation et une excitation, ils présentent donc une zone sombre qui n'émet pas de lumière ; la boule de plasma luminescent dans la zone de la colonne positive se trouve à la position la plus évidente de la décharge luminescente et sa largeur est d'environ la cathode. L'espacement des anodes est d'environ 4/5 et la longueur change avec le changement de l'espacement des anodes et des cathodes ; par rapport à la zone de colonne positive brillante, la couche de lueur d'anode émet une lumière légèrement plus sombre.

La cathode chaude, la pression de gaz élevée et la densité de courant élevée sont les caractéristiques de base de la décharge luminescente à cathode chaude qui sont différentes de la décharge luminescente à cathode froide conventionnelle. Pendant la décharge, il y a une distribution d'intensité lumineuse, de couleur et de luminosité entre les électrodes, qui sont divisées en quatre zones évidentes. La décharge luminescente couvre toute la surface de la cathode, et la tension de décharge augmente avec l'augmentation du courant de décharge ; l'émission d'électrons de cathode est combinée par l'émission thermique et le processus γ, et le degré de polarisation entre les deux est principalement déterminé par la température de cathode ; la zone de chute de cathode est de maintenir la lueur La partie indispensable de la décharge lumineuse, l'épaisseur de cette zone est très mince, il y a une chute de potentiel élevée, donc l'intensité du champ dans cette zone est très élevée et génère une énorme décharge d'onde. La densité de courant de la décharge luminescente à cathode chaude est bien supérieure à celle de la décharge luminescente à cathode froide.

Paramètres techniques DCCVD de l'équipement de dépôt chimique en phase vapeur à plasma c.c. à cathode chaude :

Chambre de dépôt

Couche intermédiaire refroidie à l'eau en acier inoxydable

Concevoir la taille de cavité appropriée en fonction de la taille de l'électrode pour s'assurer qu'il n'y a pas de décharge entre la paroi de la cavité et l'électrode

Voie à cavité ouverte

Soulevez pour ouvrir la cavité ou ouvrez la porte à l'avant, pratique pour le lofting et le nettoyage

Fenêtre d'observation

Configurez plusieurs fenêtres d'observation pour vous assurer que la cathode, l'anode et la table de dépôt peuvent être observées

Système de vide

Pompe à vide

Le vide est pompé par une pompe mécanique, pas besoin de configurer la pompe moléculaire

Vide ultime

0.1~1Pa

Temps d'arrêt de la pompe

5 ~ 15 minutes

Réglage de l'évent

Assurer l'uniformité du pompage

Plage de réglage de la pression d'air

0.1Pa~30KPa

Soupape de décharge

Peut être restitué à l'atmosphère

Jauge à vide

La jauge à vide de haute précision mesure avec précision la valeur de pression de la cavité

Système de distribution de gaz

Configuration de la source d'air

5 sources de gaz d'hydrogène, de méthane, d'azote, d'argon et d'oxygène, avec une supplémentaire réservée pour la sauvegarde

Contrôle du débit de gaz

Le débit volumique est contrôlé par MFC et un débitmètre avec une plage appropriée est sélectionné en fonction de la taille de la cavité. Différentes tailles de débit affecteront le temps de montée en pression. En général, le débit d'hydrogène : méthane : azote : argon : oxygène est de 40:1:1:40:1

Réglage de l'admission d'air

Réglage d'entrée d'air raisonnable pour assurer l'uniformité de l'entrée d'air

Système de refroidissement par eau

Puissance du refroidisseur d'eau

La puissance de refroidissement et la tête du refroidisseur d'eau doivent correspondre à la génération de chaleur de l'équipement et au débit d'eau de refroidissement, et la température doit être réglable, généralement réglée à environ 20°C

Soupape

La chambre de dépôt, la cathode et l'anode doivent toutes être refroidies, et un séparateur d'eau doit être installé, et des vannes manuelles sont réglées à l'entrée et à la sortie de chaque branche sur le séparateur d'eau.

Température de fonctionnement

La température de fonctionnement de l'anode est de 600-1100ºC, la température de fonctionnement de la cathode est de 700-1100ºC

Pouvoir

Tension de fonctionnement

600 ~ 1200 V, tension de sortie réglable

Courant de travail

6~15A

Système de contrôle

1) Contrôle du débit de gaz ;

2) Contrôle de levage d'électrode, affichage en temps réel de la distance de cathode et d'anode, précision de contrôle 1 mm;

3) Surveillance et affichage de la température de la cathode, de l'anode et du substrat ;

4) Certaines fonctions peuvent être ajustées manuellement, telles que la pression d'air ;

5) Alarme de défaut pour éviter les erreurs de fonctionnement ;

Électrode

1) Le diamètre de l'anode est de 60 mm et le matériau est en cuivre

2) Le diamètre de la cathode est de 80 ~ 100 mm et le matériau est du molybdène. Après une utilisation prolongée, le carbone se dépose facilement à la surface de la cathode et la décharge est instable. Par conséquent, il doit être conçu comme une structure remplaçable ;

3) La distance entre la cathode et l'anode est réglable, la plage est de 10 à 60 mm, la distance est affichée en temps réel et la précision de réglage est de 1 mm.

4) Les bords de la cathode et de l'anode peuvent être arrondis pour empêcher la décharge des bords ;

5) L'anode peut être polarisée négativement et la plage de tension de polarisation est de 0 à 400 V ;

6) Le bord de l'électrode est isolé pour empêcher la décharge de bord ;


Hot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD)

Fondée en 2005, Zhengzhou CY Scientific Instrument est une société spécialisée dans le développement et la production d'équipements de recherche en technologie de laboratoire. Les produits sont mélangés, pressés, brûlés, coupés, broyés, polis, enrobés, équipements analytiques et consommables associés. Les produits comprennent des équipements de frittage de laboratoire, des équipements de revêtement, etc. À l'heure actuelle, il a été exporté vers 25 pays et régions tels que les États-Unis, l'Europe et l'Asie du Sud-Est, et a été bien accueilli par diverses unités de recherche scientifique.

Nous avons une équipe de recherche et développement technologique mature, le nombre de techniciens est de 33, la société compte 150 personnes, plus de 500 mètres carrés de bureaux, l'usine couvre une superficie d'environ 1 500 mètres carrés située dans le parc industriel électronique Zhengzhou High-tech Zone. Les produits sont principalement situés sur le marché de la recherche, au service de la recherche scientifique dans les laboratoires des universités et des collèges, et peuvent également personnaliser les produits en fonction de vos besoins.

Hot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD)

Hot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD)

Hot Cathode Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition Equipment (DCCVD)

Q. Êtes-vous un fabricant ou une société commerciale ?

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Q. Comment fonctionne le système de service après-vente des produits de votre entreprise ?

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Q. Comment payer ?

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Q. Comment est le paquet de marchandises ? Modes de livraison?

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Plus de questions, veuillez contacter le service client.